Szilícium -nitrid gyártók elemzik a termék ismereteit

A szilícium -nitrid olyan kerámia anyag, amely fontos a tartós szerkezetek létrehozásához. Ez egy nagyon szilárd anyag, amelynek természetes kenése van, és atomokból áll, mint kristályok. Nem rozsdásodik magas hőmérsékleten, és ellenáll a szélsőséges meleg és hideg hőmérsékleteknek is. Levegőben melegíthető, több mint 1000 fokos hőmérsékleten, és még akkor sem szakad meg, ha gyorsan lehűtik és melegítik. Ezek a jellemzők hasznosak a motor alkatrészek, például csapágyak, turbinapengék, mechanikus tömítésgyűrűk és formák készítéséhez. Egyes motor alkatrészek fűtési felületének előállítására is használják, mivel hőt rosszul vezet. Ez javítja a dízelmotorok teljesítményét, megtakarítja az üzemanyagot és javítja a hőhatékonyságot.

A szilícium -nitrid kerámia anyagok szintén nagyon stabilak magas hőmérsékleten, nem bomlanak le az oxigén hatása alatt, és nagyon nagy és sűrűvé válhatnak. A szilícium -nitrid egy kovalens vegyület, erős kötéssel, és oxidvédő fóliát képezhet a levegőben, tehát kémiai szempontból is nagyon stabil, és 1200 fok alatti hőmérsékleten nem bomlik le. Az 1200 ~ 1600 fokon kialakított védőfilm megakadályozhatja a további oxidációt. Nem reagál sok olvadt fémmel és ötvözettel, például alumínium, ólom, ón, ezüst, sárgaréz, nikkel stb., De olvadt folyadékokkal korrodálható, például magnézium, nikkel-króm ötvözet, rozsdamentes acél stb.


Alkatrészek és tömítőelemek a vegyiparban, valamint a kések és a vágószerszámok a folyamatiparban.

Mivel a szilícium -nitrid erős kötést képezhet a szilícium -karbiddal, alumínium -oxiddal, tórium -dioxiddal, bór -nitriddel stb.


A PECVD szilícium-nitrid film alkalmazása után felhasználható anti-tükrözésgátló filmként a fényvisszaverődés csökkentésére. A szilícium -nitrid -film lerakódásának folyamatában a hidrogénatomok belépnek a szilícium -nitrid filmbe és a szilícium ostyára, amely szerepet játszik a hibák passziválásában. A szilícium -nitrid és a szilícium atomszámának aránya nem szigorúan 4: 3, hanem egy bizonyos tartományon belül változik, a különböző folyamatviszonyoktól függően, és a különböző arányok megfelelnek a film különböző fizikai tulajdonságainak.